Купить Установка вакуумная VTT PLASMA М3 IS1 для нанесения тонкопленочных покрытий Al на подложки из Si
Установка вакуумная VTT PLASMA М3 IS1 для нанесения тонкопленочных покрытий Al на подложки из Si
ustanovka_vakuumnaya_vtt_plasma_m3_is1

Установка вакуумная VTT PLASMA М3 IS1 для нанесения тонкопленочных покрытий Al на подложки из Si

Товар от производителя
В наличии
Уточняйте цену у продавца
Доставка:
Продавец
Беларусь, Сморгонь
(Показать на карте)
+375 
Показать телефоны
10
10 лет на Allbiz
Технические характеристики
  • БрендVTT
  • Страна производительБеларусь
  • ЦветСерый
Описание

Вакуумная установка VTT PLASMA M3 IS1 для нанесения в вакууме тонкопленочных покрытий Al на подложки из Si магнетронным способом с предварительной очисткой ионным источником.

Установка обеспечивает равномерное нанесение покрытий на одну боковую поверхность пластины, размером 125мм на 125 мм, толщина пластины 220±20µm, при одновременной загрузке 300 изделий.

Вакуумная установка должна эксплуатироваться на производственных участках и в лабораториях при температуре окружающего воздуха от 17 до 25ºС, относительной влажности воздуха от 40 до 75% и атмосферном давлении 84,0 * 10³ - 106,0 * 10³Па.

Возможно использование установки для нанесения декоративных покрытий на изделия из различных материалов.

С Уважением, директор предприятия

Василий Семенович

тел. моб: 375 (29) 6154641

skype: vvs_12

e - mail: vactt@mail. ru

 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ.

1. Внутренний размер камеры: D=1060 мм, H=2370.

2. Предельный остаточный вакуум 9х10 - 4 Па в камере.

3. Мощность, потребляемая установкой:

- в режиме откачки - 12 кВт;

 

- в режиме очистки и нанесения покрытия - до 60 кВт. (в зависимости от количества одновременно используемых источников)

СОСТАВ УСТАНОВКИ.

№ п/п Наименование Кол - во.
1. Магнетронный источник с блоком питания.

Размер мишени, мм

Блок питания

- ток разряда, мах , А

3 шт.

2230 * 100 * 10.

3шт.

40

2. Ионный источник

- рабочая зона, мм

- ток разряда, А

- рабочее напряжение, В

1

2100 * 70

0.7
3000

3. Технологическая оснастка барабанного типа.

Количество одновременно загружаемых изделий размером 125 * 125 мм (возможен вариант технологической оснастки непосредственно под изделия заказчика)

2 компл.

300 шт.

4. Форвакуумный агрегат Okta 500 /HENA 300 (PFEIFFER) 1
5. Высоковакуумный откачной модуль на базе диффузионного насоса НВДМ - 400 1
6. Затвор высоковакуумный Ду 400 с пневматическим управлением и возможностью дросселирования откачки 1
7. Нагреватели внутрикамерные с возможностью управления температурой подложки до 400 ˚ С . 4
8. Вакуумные датчики:

- PFEIFFER IKR 251

- PFEIFFER PKR 251

- PFEIFFER TPR 280

1

1

2

8. Контроль толщины покрытий:

- Кварцевый контроллер толщины.

- Контроль сопротивления на образце.

1

1

8 Система пневматическая на базе элементов SMC 1
9 Система гидравлическая на базе элементов SMC 1
10 Система автоматическая подачи технологических газов с возможностью работы одновременно с 4 - 8 газами 1
Связаться с продавцом
Установка вакуумная VTT PLASMA М3 IS1 для нанесения тонкопленочных покрытий Al на подложки из Si
Установка вакуумная VTT PLASMA М3 IS1  для нанесения тонкопленочных покрытий Al на подложки из Si
за
по товару
Ваше сообщение должно содержать не меньше 20 символов. Сообщение не может быть больше 2000 символов.
Не заполнено обязательное поле
Неверно заполнено поле
Неверно заполнено поле
Способы доставки
Сравнить0
ОчиститьВыбрано позиций: 0